Analisis singkat tentang Arah Pengembangan Teknis Semikonduktor Sodium Ion Rendah Aluminium Hydroxide

Bubuk aluminium hidroksida ultrafin memiliki beberapa fungsi seperti penangkal api, penekan asap, dan pengisi.Hal ini dapat menghasilkan efek tahan api sinergis dengan berbagai zat seperti fosfor dan nitrogenHal ini telah menjadi tahan api yang ramah lingkungan penting dalam kimia, kabel, karet dan plastik, elektronik dan industri lainnya.

Menurut statistik, pada tahun 2019, produksi aluminium hidroksida ultrafin negara saya adalah 634.700 ton, peningkatan tahunan sebesar 24,5%, menyumbang sekitar 25% dari pangsa pasar global;diperkirakan pada tahun 2025, produksi aluminium hidroksaida ultrafin negara saya akan mencapai 2,0218 juta ton, dengan tingkat pertumbuhan senyawa 21,3% dari 2019 hingga 2025,dan diperkirakan akan menyumbang sekitar 43% dari pangsa pasar globalDi bagian atas rantai industri aluminium hidroksida ultrafin adalah industri pertambangan bauksit dan alumina, dan bagian bawah terutama digunakan dalam kawat dan kabel, bahan isolasi, keramik,Semikonduktor dan industri lainnya.

Permintaan bulanan untuk ATH kelas elektronik kurang dari 2.000 ton, yang merupakan segmen pasar khusus.terutama memainkan peran interkoneksi, konduksi, isolasi dan dukungan untuk papan sirkuit cetak, dan memiliki dampak besar pada kecepatan transmisi, kehilangan energi dan karakteristik sinyal dalam sirkuit.untuk memenuhi permintaan semikonduktor dalam elektronik dan teknik listrik, Aku akan memanggil khusus ultrafine aluminium hidroksida khusus disesuaikan untuk semikonduktor elektronik-grade ATH.

1. Kemurnian bahan yang tinggi

Kotoran seperti zat besi oksida dan natrium oksida yang dicampur dalam aluminium hidroksida ultrafin selama proses kristalisasi akan mengurangi kinerja isolasi dari semikonduktor.natrium oksida juga mempengaruhi suhu termal dekomposisi awal aluminium hidroksida. Semakin rendah kandungan natrium oksida, semakin baik stabilitas termal produk.meminimalkan kotoran dalam aluminium hidroksida ultrafin, dan terus meningkatkan kemurnian produk adalah arah pengembangan utama dari aluminium hidroksi ultrafin untuk semikonduktor.

2. Granularitas Sentralisasi

Ultrafine aluminium hidroksida dengan ukuran partikel yang berbeda memiliki indikator parameter kinerja yang berbeda, yang secara langsung mempengaruhi kinerja produksi, pengolahan dan penggunaan semikonduktor.Semakin kecil standar penyimpangan distribusi ukuran partikel normal produk aluminium hidroksida ultrafin, semakin konsisten kinerja, dan semakin seragam dan stabil pengolahan dan penggunaan kinerja semikonduktor.pertimbangan penting adalah konsentrasi distribusi ukuran partikelBagaimana untuk secara ketat mengendalikan distribusi ukuran partikel bubuk pada tingkat mikron atau bahkan nanometer, dan menjaga stabilitas terus menerus antara batch yang berbeda,adalah masalah penting yang dihadapi oleh produsen aluminium hidroksida ultrafinOleh karena itu, sentralisasi distribusi ukuran partikel adalah arah utama pengembangan ultrafine aluminium hidroksida untuk semikonduktor.

3. Ukuran partikel ultra-halus

Ultrafiness aluminium hidroksida meningkatkan luas permukaan aluminium hidroksida, mengurangi tekanan uap dari permukaan partikel, secara signifikan meningkatkan efek retardant api,dan meningkatkan sifat mekanik dan ketahanan panas dari produk materialNamun, ukuran partikel ultrafin akan menyebabkan aglomerasi bubuk, yang secara serius mempengaruhi keseragaman bubuk dalam resin epoksi,sehingga sulit untuk menggunakan aluminium hidroksida ultrafin dalam produksi semikonduktor (A aglomerasi menyebabkan penyumbatan sistem filtrasi, B peningkatan nilai penyerapan minyak mengubah viskositas sistem resin epoksi, mempengaruhi efek rendam dan pelapis).mencapai bubuk aluminium hidroksida ultrafin dan penyeimbangan dispersibilitas pada saat yang sama adalah kesulitan teknis utama ketiga dari aluminium hidroksida ultrafin untuk semikonduktor.

4. Meningkatkan ketahanan panas

Secara umum, suhu dekomposisi aluminium hidroksida rendah, dan mulai menghilangkan air kristal pada 200 °C-220 °C.Ketika suhu terlalu tinggi selama proses produksi semikonduktor atau pengolahan papan sirkuit, aluminium hidroksida akan dehidrasi dan membentuk gelembung, yang akan menyebabkan banyak risiko kinerja papan sirkuit.Promosi proses papan sirkuit bebas timbal telah memperburuk uji tahan panas, yang telah menjadi hambatan untuk promosi dan penerapan aluminium hidroksi ultrafin dalam industri semikonduktor.Meningkatkan ketahanan panas dari ultrafine aluminium hidroksida dan beradaptasi dengan meningkatnya persyaratan ketahanan panas dari pelanggan seribu bawah adalah tantangan utama yang dihadapi saat ini.

5Perubahan permukaan

Modifikasi permukaan mengacu pada penggunaan metode tertentu untuk mengobati, memodifikasi dan memproses permukaan aluminium hidroksida ultrafin,dan sengaja mengubah sifat fisik dan kimia untuk memenuhi kebutuhan produksi dan pengolahan semikonduktorDengan modifikasi permukaan, sifat listrik, magnetisme, tegangan permukaan dan hambatan sterik dari permukaan partikel dapat diubah, dispersibilitasnya dalam resin dapat ditingkatkan,kompatibilitasnya dengan bahan polimer dapat ditingkatkan, dan kerapuhan atau degradasi kinerja bahan semikonduktor yang disebabkan oleh penambahan aluminium hidroksida ultrafin dapat dikurangi atau dihilangkan,dengan demikian memperluas rentang aplikasi hilir ultrafine aluminium hidroksida.

6. sinergi tahan api

Berbagai jenis tahan api memiliki kelebihan dan karakteristik yang berbeda. Selain itu, aluminium hidroksida sendiri memiliki beberapa kekurangan kinerja (seperti ketahanan panas).Untuk lebih memenuhi kebutuhan semikonduktor dan produk bahan hilir, kombinasi dari beberapa retardan api untuk mencapai keuntungan komplementer telah menjadi salah satu topik penelitian yang penting.teknologi kombinasi dan sinergi dengan seri nitrogen fosfor, magnesium hidroksida dan retardan api lainnya adalah arah penelitian dan pengembangan penting untuk retardan api aluminium hidroksida ultrafin.